精良设备

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  • 多弧离子镀膜设备
  • 磁控溅射镀膜设备
  • SKYVAC PlasArc® 950
    产品特点
    规格参数
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    1.新一代弧源设计,具有更高的靶材利用率及更好的液滴控制;

    2.刀具,微型刀具,刀粒,模具及零件涂层生产的理想选择;

    3.可对产品进行涂前氮化处理;

    4.可同炉沉积最多4种不同成分靶材材料;

    5.更高的产能(每天4炉);

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    纳晶真空涂层技术(东莞)有限公司

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    总机:0769-81152564

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